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 ALT提供DWDM(波分复用器)TFF(薄膜滤光片)生产所需的五氧化二钽圆饼(90×10mm)和颗粒(1~5mm)、二氧化硅圆环和颗料靶、高纯大尺寸金属钽靶、钽铌合金靶、硅靶。可适用LEYBOLDOPTORUNSHINCRONVEECO等多种镀膜系统。ALT还提供铌、钛、铬、镍、金、 银靶以及高纯蒸发膜料,可满足光学镜片、晶体以及光通讯行业有源和无源器件镀膜的需要。

 
Si target 硅靶材
经过先进的掺杂成型工艺
硅靶材纯度高,电阻率低<002Ω。
应用独特的Bonding处理的硅靶
散热优良,使用方便避免以溅镀进行金属化的高成本及差性能
 
钽靶材Ta target
高纯度,高密度
高致密性Ta钽靶
严格按照客户给定尺寸生产
交货周期短,使用方便
 
Si+Cu target 硅+铜帮定组合靶
经过先进的掺杂成型工艺
硅靶材纯度高,电阻率低<002Ω。
应用独特的Bonding处理的硅靶
散热优良,使用方便
 
Ta/Nb target 钽/铌靶
高纯度,高密度,Ta钽靶,Nb铌靶
严格按照客户给定尺寸生产
交货周期短
 
Rotary Ta/Nb/ZnAl/TiOX Target 旋转钽/铌/锌铝合金/多氧化钛管靶
高纯度,高致密性靶材
散热优良,使用方便
严格按照客户给定尺寸生产
交货周期短
 
SiO2 Target 二氧化硅靶
高纯度(99.999%)
大尺寸二氧化硅靶
主要应用在TCD(透明导电膜)
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