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 ALT提供DWDM(波分复用器)TFF(薄膜滤光片)生产所需的五氧化二钽圆饼(90×10mm)和颗粒(1~5mm)、二氧化硅圆环和颗料靶、高纯大尺寸金属钽靶、钽铌合金靶、硅靶。可适用LEYBOLDOPTORUNSHINCRONVEECO等多种镀膜系统。ALT还提供铌、钛、铬、镍、金、 银靶以及高纯蒸发膜料,可满足光学镜片、晶体以及光通讯行业有源和无源器件镀膜的需要。

 
SiO2 target 二氧化硅靶
高纯度(99.999%)
大尺寸二氧化硅靶
电阻率低,高致密性
主要应用在TCD(透明导电膜)
 
Nb target 铌靶
高纯度(99.995%)
高致密性
产品成分分布均匀
严格按照客户的尺寸生产
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