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     显示器目前正朝向平面比例与数位比发展,其中发展最快的是液晶显示器,采用薄膜电晶体型式之液晶显示器具有低耗、高亮度与反应速度快等优点,成为近年来显示器产业的重点。LCD的制程声无论是阵列基板或是彩色滤光片的制造皆依赖高均匀性与平坦性的薄膜,Alluter严密的品质控制程序与稳定的生产制程,提供客户高品质的显示器用靶材,是目前显示器产业中最可靠的国内靶材供应商。

产品特色:

1、电极材料Al5N)、Cr4N)、Ni3N)、Ta3N5)、Cu4N

2、黑色矩阵材料Cr4N)、Ta4N

3、透明电极材料ITO4N

4、扩散阻绝材料Mo3N5)、Cr(3N5

5、介电材料氧化铝、氧化矽

 

 
Cr target铬靶
热等静压成型Cr靶
最高纯度(99.99)的铬靶
适用于Color filter之B/M层
 
ITO target氧化铟锡靶
通过热等静压成型的溅射靶材
ITO靶密度高,相对密度>99%
靶材纯度为99.99%。
 
Ti target 钛靶
高纯度(99.9%,99.99%,99.999%)
溅射靶材,钛靶,适用于平面显示,光通讯以及玻璃等多种镀膜工艺。
 
SiO2 target 二氧化硅靶
高纯度(99.998%)
大尺寸二氧化硅靶
主要应用在TCD(透明导电膜)。
 
Mo target 钼靶
高纯度(99.95%)
Mo靶薄膜靶材
应用TFT-LCD Array 制程中的S/D和Gate镀膜
 
Cr target 铬靶
热等静压成型,
最高纯度(99.99%)的铬靶
适用于Color filter之B/M层。
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